1.商务部副部长希望荷方在EUV光刻机和其他问题上持公平立场。据商务部网站报道，12月16日下午，商务部副部长兼国际贸易谈判副代表于建华与荷兰外交部发展合作部部长卡格共同主持了中国第十七次会议。
中荷经贸混委会以录像带的形式，就共同关心的中荷和中欧经贸合作议题深入交换了意见。于建华说，中国目前正在加快建设以国内外周期为主体，相互促进国内外双周期的新发展格局，这将为中荷和中欧合作带来新的机遇。
面对新的冠状肺炎流行的影响，中荷经贸合作显示出强劲的弹性，欢迎荷兰公司在中国扩大贸易和投资。中荷双方都应继续秉持多边主义，积极促进全球贸易和投资的自由化和便利化。
中国愿在服务贸易和电子商务领域扩大合作。同时，希望荷兰在华为的5G和EUV光刻机等问题上保持公正立场。
中方将同荷兰密切合作，落实两国领导人达成的共识，推动两国经贸合作再上新台阶。卡吉对中方在疫情期间对荷兰方面在中国采购医疗用品的大力支持表示感谢。
荷兰高度重视中国的大市场，愿与中国加强在多边领域的合作，希望在服务贸易和电子商务领域扩大实际合作，同时探索合作应对气候变化和可持续发展等领域的机遇。双方同意支持为两国企业建立企业家委员会机制，并于明年年初主办首届中荷在线商务交流会议。
2.芯片制造与荷兰ASMLEUV光刻机密切相关。荷兰ASML生产的EUV光刻机使用由激光产生并由巨型镜聚焦的极紫外（EUV）光束在硅芯片上铺设非常狭窄的电路。
这使制造商可以制造更快，功能更强大的微处理器，存储芯片和其他高级组件。这些组件对于消费类电子产品和军事应用都是必不可少的。
目前，只有少数公司有能力生产最复杂的芯片，包括美国的英特尔，韩国的三星电子和台湾的台积电。同时，中国将芯片制造技术的改进作为重中之重，并为此投入了大量资金。
但是，要生产这种最复杂的芯片，必须使用EUV光刻机，而目前只有ASML可以生产这种类型的光刻机。目前，国内的光刻机制造商包括上海微电子，中电四十五研究所，合肥新硕半导体等。
然而，由于技术难度巨大，短期内它们仍处于相对不利的地位。上海微电子将推出首款使用ArF光源且可生产11nm的SSA800 / 10W光刻机。
华卓精密工作台的覆盖精度指标优于1.7nm。多次曝光后，将生产7nm芯片。
潜在的。国光光学，长春光学力学研究所，上海光学力学，科仪宏远光电和中国微半导体等国内光刻机的关键子系统已经技术完成，采用独立技术替代的相应商业产品是自然而然的。
。但是，毕竟，家用光刻机离领先的光刻机AMSL太远了。
目前，直接开发和完成具有完全自主知识产权的光刻机的任务太困难了。为了进一步推进芯片制造工艺，仍然有必要引入先进的光刻机。
3.单方面的“封锁运动”。为了防止荷兰向中国和美国出售平版印刷机，美国于2018年开始实施。
在荷兰政府向ASML颁发出口许可证后的几个月内，美国政府官员谨慎地。